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Influence comparison of N
2
and NH
3
nitrogen sources on AlN films grown by halide vapor phase epitaxy
陈晶晶, 黄俊, 苏旭军, 牛牧童, 徐科
Influence comparison of N
2
and NH
3
nitrogen sources on AlN films grown by halide vapor phase epitaxy
Jing-Jing Chen(陈晶晶), Jun Huang(黄俊), Xu-Jun Su(苏旭军), Mu-Tong Niu(牛牧童), Ke Xu(徐科)
中国物理B . 2020, (
7
): 76802 -076802 . DOI: 10.1088/1674-1056/ab90ed