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Electron behaviour in CH
4
/H
2
gas mixture in electron-assisted chemical vapour deposition
董丽芳, 马博琴, 王志军
Electron behaviour in CH
4
/H
2
gas mixture in electron-assisted chemical vapour deposition
Dong Li-Fang (董丽芳), Ma Bo-Qin (马博琴), Wang Zhi-Jun (王志军)
中国物理B . 2004, (
10
): 1597 -1600 . DOI: 10.1088/1009-1963/13/10/002