×
模态框(Modal)标题
在这里添加一些文本
关闭
关闭
提交更改
取消
确定并提交
×
模态框(Modal)标题
在这里添加一些文本
关闭
Annealing characteristics of ultra-thin high-K HfO
2
gate dielectrics
韩德栋, 康晋锋, 林长海, 韩汝琦
Annealing characteristics of ultra-thin high-
K
HfO
2
gate dielectrics
Han De-Dong (韩德栋), Kang Jin-Feng (康晋锋), Lin Chang-Hai (林长海), Han Ru-Qi (韩汝琦)
中国物理B . 2003, (
3
): 325 -327 . DOI: 10.1088/1009-1963/12/3/314