Simulation of positron backscattering and implantation profiles using Geant4 code

Huang Shi-Juan^a),^b), Pan Zi-Wen^a),^b), Liu Jian-Dang^a),^b), Han Rong-Dian^a),^b), Ye Bang-Jiao†^a),^b)

The backscattering coefficients versus incident positron energy for amorphous polymers.