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Effect of PECVD SiN
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/SiO
y
N
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-Si interface property on surface passivation of silicon wafer
贾晓洁, 周春兰, 朱俊杰, 周肃, 王文静
Effect of PECVD SiN
x
/SiO
y
N
x
-Si interface property on surface passivation of silicon wafer
Xiao-Jie Jia(贾晓洁), Chun-Lan Zhou(周春兰), Jun-Jie Zhu(朱俊杰), Su Zhou(周肃), Wen-Jing Wang(王文静)
中国物理B . 2016, (
12
): 127301 -127301 . DOI: 10.1088/1674-1056/25/12/127301