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Atomic-layer-deposited Al
2
O
3
and HfO
2
on InAlAs: A comparative study of interfacial and electrical characteristics
武利翻, 张玉明, 吕红亮, 张义门
Atomic-layer-deposited Al
2
O
3
and HfO
2
on InAlAs: A comparative study of interfacial and electrical characteristics
Li-Fan Wu(武利翻), Yu-Ming Zhang(张玉明), Hong-Liang Lv(吕红亮), Yi-Men Zhang(张义门)
中国物理B . 2016, (
10
): 108101 -108101 . DOI: 10.1088/1674-1056/25/10/108101