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Effect of F doping on capacitance－voltage characteristics of SiCOH low-
k
films metal－insulator－semiconductor structure
叶超, 宁兆元
Effect of F doping on capacitance－voltage characteristics of SiCOH low-
k
films metal－insulator－semiconductor structure
Ye Chao(叶超) and Ning Zhao-Yuan(宁兆元)
中国物理B . 2010, (
5
): 57701 -057701 . DOI: 10.1088/1674-1056/19/5/057701